通过控制温度的分子操作和测定

专利主权项内容

1.一种用于测定薄流体样品层的装置，包含：第一板、第二板、间隔件和夹具，其中：i．所述第一板和所述第二板可相对于彼此移动成不同的构造，包含开放构造和闭合构造；ii．所述板中的每一个在其各自的表面上包含用于接触流体样品的样品接触区域；iii．一个或两个所述板包含固定于相应板的间隔件；iv．所述间隔件具有等于或小于200微米的预定的基本上均匀的高度，其中所述间隔件中的至少一个在所述样品接触区域内；v．加热层被配置为加热所述流体样品；以及vi. 所述夹具压在所述第一板和所述第二板的外侧以在加热过程中将在所述闭合构造中的两个所述板固定在一起，其中所述加热层是(a)在一个所述板上的内表面或外表面上或附近，或在一个所述板内，并且(b)能够被加热源加热，其中所述加热源通过光、电、射频(RF)辐射或其组合将热能传递至所述加热层；其中在所述开放构造中，所述两个板是部分或完全分开的，所述板之间的间距不由所述间隔件调节，并且所述样品沉积在一个或两个所述板上；并且其中在所述样品在所述开放构造中沉积之后构造的闭合构造中，至少一部分所述样品被所述两个板压成基本上厚度均匀的层并且相对于所述板基本上停滞，其中所述层的均匀厚度由所述两个板的所述样品接触区域限定，并由所述板和所述间隔件调节；其中所述第一板和所述第二板被配置为用于将所述样品的至少一部分限定在厚度为0.1-200µm并且相对于所述板基本上停滞的非常均匀的层中；其中所述第一板具有200µm或更小的厚度，并且所述第二板具有2mm或更小的厚度；其中所述板和所述样品厚度允许所述样品的温度以10℃/s或更高的速率改变。 搜索马 克 数 据 网