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一种人工对版自由调整套刻尺寸的多重光刻用光刻版
申请人信息
- 申请人:浙江赛晶电子有限公司
- 申请人地址:324199 浙江省衢州市江山市清湖街道毛塘路9-1号
- 发明人: 浙江赛晶电子有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种人工对版自由调整套刻尺寸的多重光刻用光刻版 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202421141985.5 |
| 申请日 | 2024/5/23 |
| 公告号 | CN222281041U |
| 公开日 | 2024/12/31 |
| IPC主分类号 | G03F1/42 |
| 权利人 | 浙江赛晶电子有限公司 |
| 发明人 | 虞旭俊; 贺鸿浩; 王俊; 蒋杰; 胡煜涛; 毛建军; 任亮 |
| 地址 | 浙江省衢州市江山市清湖街道毛塘路9-1号 |
摘要文本
浙江赛晶电子有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本发明公开了一种人工对版自由调整套刻尺寸的多重光刻用光刻版，属于半导体制造设备领域。本实用新型设计了配套使用的一次光刻版和套刻版，两者表面除了芯片单元掩膜之外，还分别带有坐标尺掩膜和定位标记掩膜两类标记性特征图案掩膜，使得晶圆在一次正面光刻后的晶圆非芯片位置得到可以通过显微镜而清晰观察到的坐标尺，并经过湿法刻蚀将坐标尺保留在晶圆上。由此，在套刻的过程中，人为操作时可以采用套刻的特征点再坐标尺上根据目标套刻尺寸，进行任意的调整并定位套刻的位置，在采用了多重光刻的方法后，可以自由调整套刻尺寸大小，获得所需的芯片图案。 数据由马 克 团 队整理
专利主权项内容
1.一种人工对版自由调整套刻尺寸的多重光刻用光刻版，包括配套使用的一次光刻版和套刻版，一次光刻版和套刻版上均具有方形的芯片掩膜单元，其特征在于：
所述一次光刻版上带有至少三个完全相同的坐标尺掩膜，三个坐标尺掩膜的中心不在同一直线上；每个坐标尺掩膜中包含一个带有坐标原点和多个方形环；不同方形环的中心均重合于坐标原点，但不同方形环的边长不同；所述一次光刻版中所有方形环的姿态方向均与芯片掩膜单元的姿态方向一致；
所述套刻版上带有与所述坐标尺掩膜数量相同且一一对应的定位标记掩膜，每个定位标记掩膜包括定位圆点以及中心重合于定位圆点的定位环；
所述一次光刻版中的芯片掩膜单元与所述套刻版中的芯片掩膜单元一一对应且中心均完全重合时，每个定位标记掩膜中的定位圆点刚好与对应的坐标尺掩膜中的坐标原点重合。