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转子平衡校正用点胶头的胶水清理机构

申请号: CN202420265873.4
申请人: 苏州赛德克测控技术有限公司
更新日期: 2026-05-05

专利详细信息

项目 内容
专利名称 转子平衡校正用点胶头的胶水清理机构
专利类型 实用新型
申请号 CN202420265873.4
申请日 2024/2/2
公告号 CN222240953U
公开日 2024/12/27
IPC主分类号 B05B15/50
权利人 苏州赛德克测控技术有限公司
发明人 赵飞; 朱灿好; 尤业圣
地址 江苏省苏州市吴中区吴中经济开发区东吴工业园盛虹路9号8幢

摘要文本

苏州赛德克测控技术有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本申请公开了一种转子平衡校正用点胶头的胶水清理机构,涉及转子平衡校正技术领域。本申请的一种转子平衡校正用点胶头的胶水清理机构,包括基板、两根绕卷辊、多根支撑辊和擦胶布,绕卷辊的转动轴线与支撑辊的转动轴线相平行,多根支撑辊之间形成擦胶槽,擦胶布包括位于擦胶槽内的第一布体、位于擦胶槽外的第二布体,胶水清理机构还包括设于基板上的用于推动第一布体向着擦胶槽内凹陷的推布组件。本申请的胶水清理机构,擦胶槽能够容置点胶头,推布组件推动第一布体抵触于点胶头上并对点胶头进行擦拭,能够有效的对点胶头上的残留胶水进行清理,保证了点胶头的点胶精度。

专利主权项内容

1.一种转子平衡校正用点胶头的胶水清理机构,其特征在于:包括基板(1)、两根绕其自身轴心线方向可转动的设于所述基板(1)上的绕卷辊(2)、多根绕其自身轴心线方向可转动的设于所述基板(1)上的支撑辊(3)、两端分别绕卷于所述的两根绕卷辊(2)上且能够绕经所述的多根支撑辊(3)的擦胶布(4),所述绕卷辊(2)的转动轴线与所述支撑辊(3)的转动轴线相平行,所述的多根支撑辊(3)之间形成擦胶槽(5),所述擦胶布(4)包括位于所述擦胶槽(5)内的第一布体(41)、位于所述擦胶槽(5)外的第二布体(42),所述胶水清理机构还包括设于所述基板(1)上的用于推动所述第一布体(41)向着所述擦胶槽(5)内凹陷的推布组件(6)。