一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置

专利主权项内容

1.一种用于铜蚀刻液的pH值调节装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的上端安装有调节箱(2)，所述调节箱(2)的内部一侧安装有温度检测装置(7)，所述调节箱(2)的内部另一侧安装有pH检测装置(4)，所述调节箱(2)的上端中心位置安装有搅拌机构(6)，所述调节箱(2)的上端侧边安装有内壁清洁机构(8)，所述调节箱(2)的上端拐角处安装有控制板(15)，所述底板(1)的上端一侧安装有酸性pH调节溶液调节罐(11)，所述底板(1)的上端一侧靠近酸性pH调节溶液调节罐(11)的位置安装有碱性pH调节溶液调节罐(12)，所述酸性pH调节溶液调节罐(11)的侧边安装有水泵一(10)，所述水泵一(10)的另一端安装有酸性进液管(9)，所述碱性pH调节溶液调节罐(12)的侧边安装有水泵二(13)，所述水泵二(13)的另一端安装有碱性进液管(14)，所述底板(1)的上端另一侧安装有储水罐(3)，所述储水罐(3)的侧边安装有水泵三(16)，所述水泵三(16)的另一端安装有进水管(5)。