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倒置式屋面立墙泛水构造

申请号: CN202420635794.8
申请人: 武汉和创建筑工程设计有限公司
更新日期: 2026-05-11

专利详细信息

项目 内容
专利名称 倒置式屋面立墙泛水构造
专利类型 实用新型
申请号 CN202420635794.8
申请日 2024/3/29
公告号 CN222044748U
公开日 2024/11/22
IPC主分类号 E04D13/14
权利人 武汉和创建筑工程设计有限公司
发明人 周丽; 周胜; 肖晓贤; 谢静
地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道3号激光工程设计总部(一期)研发楼04幢11层1号

摘要文本

武汉和创建筑工程设计有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种倒置式屋面立墙泛水构造,其特征在于,包括女儿墙、屋面以及泛水结构;所述泛水结构包括防水层、混凝土压顶层、第一砖墙保护层和抹灰层;女儿墙面位于泛水结构的收头处开设有泛水槽,所述防水层铺设固定于女儿墙和屋面,所述防水层的一端延伸至泛水槽中,且泛水槽的端口通过混凝土压顶层封堵,女儿墙位于混凝土压顶层下方的侧面固定第一砖墙保护层以将防水层与外部隔绝,所述第一砖墙保护层的底部与屋面固定,所述抹灰层涂抹于女儿墙、混凝土压顶层和第一砖墙保护层的外侧面。本实用新型具有施工简单,通过在女儿墙墙根处增加防水层的保护层及改进防水收头做法来降低女儿墙墙根处渗水的可能性。

专利主权项内容

1.一种倒置式屋面立墙泛水构造,其特征在于,包括女儿墙、屋面以及泛水结构;所述泛水结构包括防水层、混凝土压顶层、第一砖墙保护层和抹灰层;
女儿墙面位于泛水结构的收头处开设有泛水槽,所述防水层铺设固定于女儿墙和屋面,所述防水层的一端延伸至泛水槽中,且泛水槽的端口通过混凝土压顶层封堵,女儿墙位于混凝土压顶层下方的侧面固定第一砖墙保护层以将防水层与外部隔绝,所述第一砖墙保护层的底部与屋面固定,所述抹灰层涂抹于女儿墙、混凝土压顶层和第一砖墙保护层的外侧面。 数据由整理