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防止清洗液回溅的装置及其使用方法

申请号: CN202210898315.7
申请人: 上海华力集成电路制造有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 防止清洗液回溅的装置及其使用方法
专利类型 发明授权
申请号 CN202210898315.7
申请日 2022/7/28
公告号 CN115464558B
公开日 2024/1/19
IPC主分类号 B24B53/017
权利人 上海华力集成电路制造有限公司
发明人 于明非; 石峰; 朱绍佳; 张健; 周海锋
地址 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

摘要文本

上海华力集成电路制造有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术,本发明提供一种防止清洗液回溅的装置及其使用方法,提供底座;提供晶圆固定机构,晶圆固定机构的上表面固定连接有第一移动机构,晶圆固定机构靠近最外侧的下表面固定连接有挡圈,晶圆固定机构的的下表面上固定连接有晶圆;提供第二移动机构以及固定连接在第二移动机构上的挡板,挡板在晶圆研磨完成前,设于晶圆外的初始位置;研磨晶圆;启动第一移动机构带动晶圆移动;启动第二移动机构,带动挡板移动至晶圆的下方;冲洗研磨垫,挡板用于阻挡清洗液溅射至晶圆上;移动第二移动机构,使得挡板复位。本发明通过在CMP研磨头下面安装可伸缩有机挡板,用来防止研磨垫冲洗时水回溅到晶圆表面,减少薄膜与水的接触,降低腐蚀缺陷的产生。 来源:百度马 克 数据网

专利主权项内容

1.一种防止清洗液回溅的装置,其特征在于,包括:底座,所述底座下表面固定连接有转动轴,所述底座的上表面设置有研磨垫;晶圆固定机构,所述晶圆固定机构的上表面固定连接有第一移动机构,所述晶圆固定机构靠近最外侧的下表面固定连接有挡圈,所述晶圆固定机构的的下表面上固定连接有晶圆;第二移动机构以及固定连接在所述第二移动机构上的挡板,所述挡板在所述晶圆研磨完成前,设于所述晶圆外的初始位置;其中,所述转动轴用于带动其上的所述底座转动;所述第一移动机构用于带动所述晶圆固定机构上的所述晶圆移动至所述研磨垫上研磨;所述第一移动机构用于带动所述晶圆向远离所述研磨垫的一侧移动;所述第二移动机构用于带动所述挡板移动至所述晶圆的下方;所述挡板用于冲洗所述研磨垫时,阻挡清洗液溅射至所述晶圆上;所述第二移动机构用于冲洗完成后带动所述挡板复位。