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一种GaAs单晶生长用清洗装置

申请号: CN202420948034.2
申请人: 喻嘉科技(德州)股份有限公司
更新日期: 2026-05-11

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种GaAs单晶生长用清洗装置
专利类型 实用新型
申请号 CN202420948034.2
申请日 2024/5/6
公告号 CN222220493U
公开日 2024/12/24
IPC主分类号 B08B3/02
权利人 喻嘉科技(德州)股份有限公司
发明人 李卓骏; 黄飞; 张丽
地址 山东省德州市宁津县339国道与前杨村村口交叉口南300米路西

摘要文本

喻嘉科技(德州)股份有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种GaAs单晶生长用清洗装置,包括清洗本体、驱动装置、清洗装置和多个排水口,其中,驱动装置包括驱动组件和传动组件,其中,驱动组件分别设置在清洗本体的两侧;传动组件分别可转动地设置在清洗本体内,且传动组件与驱动组件相连;清洗装置包括清洗组件,其中,清洗组件设置在清洗本体上;多个排水口分别设置在清洗本体上一侧。由此,通过设置驱动组件和传动组件,能够显著增强清洗装置的批量处理能力,大幅提升了清洗效率,同时设置有倾斜角度的传送带,使得单晶在传送过程中能够更全面地暴露于清洗液或清洗气流中,有效避免了清洗死角,从而确保每一块单晶都能得到彻底而均匀的清洗。

专利主权项内容

1.一种GaAs单晶生长用清洗装置,其特征在于,包括清洗本体(1)、驱动装置(2)、清洗装置(3)和多个排水口(4),其中,
所述驱动装置(2)包括驱动组件(21)和传动组件(22),其中,
所述驱动组件(21)分别设置在所述清洗本体(1)的两侧;
所述传动组件(22)分别可转动地设置在所述清洗本体(1)内,且所述传动组件(22)与所述驱动组件(21)相连;
所述清洗装置(3)包括清洗组件(31),其中,
所述清洗组件(31)设置在所述清洗本体(1)上;
多个所述排水口(4)分别设置在所述清洗本体(1)上一侧。