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一种有利于双面同步印刷的膜结构
申请人信息
- 申请人:江苏瑞亿扬材料科技有限公司
- 申请人地址:223600 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区迎晖路东侧、赐富路北侧
- 发明人: 江苏瑞亿扬材料科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种有利于双面同步印刷的膜结构 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420300077.X |
| 申请日 | 2024/2/19 |
| 公告号 | CN222223687U |
| 公开日 | 2024/12/24 |
| IPC主分类号 | B32B33/00 |
| 权利人 | 江苏瑞亿扬材料科技有限公司 |
| 发明人 | 何千道 |
| 地址 | 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区迎晖路东侧、赐富路北侧 |
摘要文本
江苏瑞亿扬材料科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种有利于双面同步印刷的膜结构,其包括:第一基膜层、第二基膜层、阻隔层、第一印刷层和第二印刷层,所述第一基膜层覆盖设置在阻隔层的顶面,所述第二基膜层覆盖设置在阻隔层的底面,所述第一印刷层设置在第一基膜层的顶面,所述第二印刷层设置在第二基膜层的底面,所述第一基膜层边缘间隔设置有位于第一印刷层两侧的定位孔,所述定位孔向下贯穿阻隔层和第二基膜层,所述第二印刷层位于两侧的定位孔之间。本实用新型所述的有利于双面同步印刷的膜结构,有利于进行第一印刷层和第二印刷层的双面同步印刷,生产效率高,并在印刷后进行同步降温固化。
专利主权项内容
1.一种有利于双面同步印刷的膜结构,其特征在于,包括:第一基膜层、第二基膜层、阻隔层、第一印刷层和第二印刷层,所述第一基膜层覆盖设置在阻隔层的顶面,所述第二基膜层覆盖设置在阻隔层的底面,所述第一印刷层设置在第一基膜层的顶面,所述第二印刷层设置在第二基膜层的底面,所述第一基膜层边缘间隔设置有位于第一印刷层两侧的定位孔,所述定位孔向下贯穿阻隔层和第二基膜层,所述第二印刷层位于两侧的定位孔之间。