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一种有利于双面同步印刷的膜结构

申请号: CN202420300077.X
申请人: 江苏瑞亿扬材料科技有限公司
更新日期: 2026-05-14

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种有利于双面同步印刷的膜结构
专利类型 实用新型
申请号 CN202420300077.X
申请日 2024/2/19
公告号 CN222223687U
公开日 2024/12/24
IPC主分类号 B32B33/00
权利人 江苏瑞亿扬材料科技有限公司
发明人 何千道
地址 江苏省宿迁市沭阳县经济开发区迎晖路东侧、赐富路北侧

摘要文本

江苏瑞亿扬材料科技有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种有利于双面同步印刷的膜结构,其包括:第一基膜层、第二基膜层、阻隔层、第一印刷层和第二印刷层,所述第一基膜层覆盖设置在阻隔层的顶面,所述第二基膜层覆盖设置在阻隔层的底面,所述第一印刷层设置在第一基膜层的顶面,所述第二印刷层设置在第二基膜层的底面,所述第一基膜层边缘间隔设置有位于第一印刷层两侧的定位孔,所述定位孔向下贯穿阻隔层和第二基膜层,所述第二印刷层位于两侧的定位孔之间。本实用新型所述的有利于双面同步印刷的膜结构,有利于进行第一印刷层和第二印刷层的双面同步印刷,生产效率高,并在印刷后进行同步降温固化。

专利主权项内容

1.一种有利于双面同步印刷的膜结构,其特征在于,包括:第一基膜层、第二基膜层、阻隔层、第一印刷层和第二印刷层,所述第一基膜层覆盖设置在阻隔层的顶面,所述第二基膜层覆盖设置在阻隔层的底面,所述第一印刷层设置在第一基膜层的顶面,所述第二印刷层设置在第二基膜层的底面,所述第一基膜层边缘间隔设置有位于第一印刷层两侧的定位孔,所述定位孔向下贯穿阻隔层和第二基膜层,所述第二印刷层位于两侧的定位孔之间。