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半导体结构和半导体结构的制造方法

申请号: CN202210957711.2
申请人: 长鑫存储技术有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 半导体结构和半导体结构的制造方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202210957711.2
申请日 2022/8/10
公告号 CN117650132A
公开日 2024/3/5
IPC主分类号 H01L25/065
权利人 长鑫存储技术有限公司
发明人 庄凌艺; 吕开敏
地址 安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号

摘要文本

本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构和半导体结构的制造方法,半导体结构包括:基板,所述基板具有供电端口;存储模块,位于所述基板上;所述存储模块包括沿第一方向堆叠的存储芯片,所述第一方向平行于所述基板的上表面;每个所述存储芯片内具有供电信号线,多个所述存储芯片中的至少一者具有供电布线层,所述供电信号线与所述供电布线层电连接;所述供电布线层包括相连的第一布线层和第二布线层,所述第一布线层所在的平面垂直于所述基板的上表面;所述第二布线层位于所述存储芯片远离所述基板的表面;引线,与所述第二布线层相连;引线框架,与所述引线和所述供电端口相连。本公开实施例至少可以提高半导体结构的性能。

专利主权项内容

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:基板,所述基板具有供电端口;存储模块,位于所述基板上;所述存储模块包括沿第一方向堆叠的多个存储芯片,所述第一方向平行于所述基板的上表面;每个所述存储芯片内具有供电信号线,多个所述存储芯片中的至少一者具有供电布线层,所述供电信号线与所述供电布线层电连接;所述供电布线层包括相连的第一布线层和第二布线层,所述第一布线层所在的平面垂直于所述基板的上表面;所述第二布线层位于所述存储芯片远离所述基板的表面;引线,与所述第二布线层相连;引线框架,与所述引线和所述供电端口相连。