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氧化锆光学镀膜及制备方法与应用和减反射膜
申请人信息
- 申请人:比亚迪股份有限公司
- 申请人地址:518118 广东省深圳市坪山区比亚迪路3009号
- 发明人: 比亚迪股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 氧化锆光学镀膜及制备方法与应用和减反射膜 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202211061874.9 |
| 申请日 | 2022/8/31 |
| 公告号 | CN117660890A |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | C23C14/24 |
| 权利人 | 比亚迪股份有限公司 |
| 发明人 | 吴子杰; 刘玉阳; 马兰; 许海波 |
| 地址 | 广东省深圳市坪山区比亚迪路3009号 |
摘要文本
本发明涉及光学镀膜技术领域，公开了一种氧化锆光学镀膜及制备方法与应用和减反射膜。所述氧化锆光学镀膜的厚度为1‑1000nm，密度为5.99‑6.23g/cm3，在波长550nm条件下的折射率≥2.1。制备方法包括：(1)对氧化锆材料进行热蒸镀处理，得到附着在基材表面的氧化锆预镀膜；(2)在离子轰击存在下，将含水蒸气的气体与所述氧化锆预镀膜进行接触，对所述氧化锆预镀膜进行退火处理，得到氧化锆光学镀膜。相较于常规氧化锆薄膜，本发明提供的氧化锆光学镀膜具有更高的折射率，以及低消光系数，兼具优异的光学性能、强度性能和抗紫外线性能，进而可与低折射率的膜层共同制备成具有优异光学性能和强度性能的减反射膜。
专利主权项内容
1.一种氧化锆光学镀膜，其特征在于，所述氧化锆光学镀膜的厚度为1-1000nm，密度为5.99-6.23g/cm，在波长550nm条件下的折射率≥2.1。3。更多数据：搜索马克数据网来源：