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偏振光学显微测量系统

申请号: CN202420655820.3
申请人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
更新日期: 2026-05-18

专利详细信息

项目 内容
专利名称 偏振光学显微测量系统
专利类型 实用新型
申请号 CN202420655820.3
申请日 2024/4/1
公告号 CN222232330U
公开日 2024/12/24
IPC主分类号 G01N21/21
权利人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
发明人 张兴旺; 夏梦; 陈玉华
地址 江苏省苏州市工业园区若水路398号

摘要文本

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种偏振光学显微测量系统,包括光源、第一偏振组、样品架、物镜、无限远校正管镜、二维可调狭缝、成像透镜组和信号收集器。第一偏振组设于光源的光传播方向上,样品架设于第一偏振组背离光源的一侧,物镜设于样品架背离第一偏振组的一侧,无限远校正管镜设于物镜背离样品架的一侧,二维可调狭缝设于无限远校正管镜背离物镜的一侧,成像透镜组设于二维可调狭缝背离无限远校正管镜的一侧,信号收集器设于成像透镜组背离二维可调狭缝的一侧。本实用新型实施方式中的偏振光学显微测量系统,各个光学元件呈一字形布置形成一字形直列光路,实现了对微纳结构的偏振光谱和偏振成像的光学测试,提高了测试效率和准确度。

专利主权项内容

1.一种偏振光学显微测量系统,其特征在于,包括:
光源(1),用于发射光束形成光路;
第一偏振组(2),设于所述光源(1)的光传播方向上,所述第一偏振组(2)包括可移出光路的第一线偏振片(21)和第一1/4波片(22),所述第一线偏振片(21)位于所述光源(1)和所述第一1/4波片(22)之间;
样品架(3),其能够移动和调节角度并设于所述第一偏振组(2)背离所述光源(1)的一侧;
物镜(4),设于所述样品架(3)背离所述第一偏振组(2)的一侧;
无限远校正管镜(5),设于所述物镜(4)背离所述样品架(3)的一侧;
二维可调狭缝(6),设于所述无限远校正管镜(5)背离所述物镜(4)的一侧;
成像透镜组(8),设于所述二维可调狭缝(6)背离所述无限远校正管镜(5)的一侧;
信号收集器(9),设于所述成像透镜组(8)背离所述二维可调狭缝(6)的一侧。