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半导体行业含硅废水处理系统

申请号: CN202421002017.6
申请人: 沃威沃水技术(中国)有限公司
更新日期: 2026-05-21

专利详细信息

项目 内容
专利名称 半导体行业含硅废水处理系统
专利类型 实用新型
申请号 CN202421002017.6
申请日 2024/5/9
公告号 CN222239637U
公开日 2024/12/27
IPC主分类号 B01D61/18
权利人 沃威沃水技术(中国)有限公司
发明人 聂秀金; 刘洋; 赵子尧
地址 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区碧波路572弄115号8幢

摘要文本

沃威沃水技术(中国)有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本实用新型公开了一种半导体行业含硅废水处理系统,其包括原水池、保安过滤器、纳滤膜过滤器和冲洗装置,原水池内具有含硅废水,保安过滤器与原水池连通,用于对原水池内排出的含硅废水进行过滤,纳滤膜过滤器与保安过滤器连通,用于对经过保安过滤器预过滤的含硅废水进行过滤,所述纳滤膜过滤器的膜孔径为0.1nm‑0.6nm,冲洗装置与纳滤膜过滤器连通,用于对纳滤膜过滤器进行冲洗。本实用新型实施例的半导体行业含硅废水处理系统具有过滤效果好、使用寿命长的优点。

专利主权项内容

1.一种半导体行业含硅废水处理系统,其特征在于,包括:
原水池(1),所述原水池(1)内具有含硅废水;
保安过滤器(2),所述保安过滤器(2)与所述原水池(1)连通,用于对所述原水池(1)内排出的含硅废水进行预过滤;
纳滤膜过滤器(3),所述纳滤膜过滤器(3)与所述保安过滤器(2)连通,用于对经过所述保安过滤器(2)预过滤的含硅废水进行过滤,所述纳滤膜过滤器(3)的膜孔径为0.1nm-0.6nm;
冲洗装置(4),所述冲洗装置(4)与所述纳滤膜过滤器(3)连通,用于对所述纳滤膜过滤器(3)进行冲洗。。