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PCB叠层结构中插入式结构的叠层化处理方法

申请号: CN202311685901.4
申请人: 芯瑞微(上海)电子科技有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 PCB叠层结构中插入式结构的叠层化处理方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311685901.4
申请日 2023/12/8
公告号 CN117688879A
公开日 2024/3/12
IPC主分类号 G06F30/3308
权利人 芯瑞微(上海)电子科技有限公司
发明人 吴培伟; 陈瑛珞; 郭茹; 徐刚; 吴寅芝
地址 上海市浦东新区海洋四路99号创新魔坊一期6号楼6层

摘要文本

芯瑞微(上海)电子科技有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术,本发明提出了一种PCB叠层结构中插入式结构的叠层化处理方法,包括:步骤S1,对插入式结构进行初步层化。步骤S2,确定插入式结构的插入深度。步骤S3,对插入式结构中与PCB中金属层相对应的位置进行净化处理。步骤S4,PCB向插入式结构的层映射。步骤S5,对经过映射后的插入式结构的层进行调整。步骤S6,插入式结构向PCB的层映射。步骤S7,获取最终结果,所述最终结果为步骤S5中的插入式结构和步骤S6中的PCB。本发明在2.5D仿真中引入了3D插入器件,通过自动化插入深度的搜寻、3D结构的层化和与PCB的叠层结构的调整,以及自动拟合层关系等手段,旨在提高仿真的准确性和成功率,同时简化了仿真的设置过程。

专利主权项内容

1.一种PCB叠层结构中插入式结构的叠层化处理方法,其特征在于,包括:步骤S1,对插入式结构进行初步层化:如果插入式结构在高度方向上存在尺寸变化,则插入式结构在存在尺寸变化的位置被初步分为数层;步骤S2,确定插入式结构的插入深度,所述插入深度为插入式结构被插入到PCB中的深度;步骤S3,对插入式结构中与PCB中金属层相对应的位置进行净化处理;步骤S4,PCB向插入式结构的层映射:将PCB层的高度参数映射到经过净化处理的插入式结构中;步骤S5,对经过层映射后的插入式结构的层进行调整;步骤S6,插入式结构向PCB的层映射:将经过调整的插入式结构的层映射到PCB中;步骤S7,获取最终结果,所述最终结果为步骤S5中的插入式结构和步骤S6中的PCB。