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关键尺寸量测方法、装置、设备及存储介质

申请号: CN202311628531.0
申请人: 魅杰光电科技(上海)有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 关键尺寸量测方法、装置、设备及存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202311628531.0
申请日 2023/11/30
公告号 CN117637513A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 H01L21/66
权利人 魅杰光电科技(上海)有限公司
发明人 王志文; 张奇; 温任华
地址 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区海洋一路333号1号楼、2号楼

摘要文本

魅杰光电科技(上海)有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术,本申请提供一种关键尺寸的量测方法、装置、设备及存储介质,应用于关键尺寸量测技术领域,获取多张待测对象对应的目标量测图像,通过对多张目标量测图像做灰度投影处理,得到多张目标量测图像对应的多条一维曲线,从而叠加多张目标量测图像对应的多条一维曲线,生成目标合成图像,在目标合成图像上建立第一区域,并基于第一区域对目标合成图像做灰度投影处理,以得到目标合成图像对应的一维曲线,从而对目标合成图像对应的一维曲线求导并插值,得到量测信息,最终基于量测信息计算待测对象的关键尺寸。本申请提供的关键尺寸量测方法能够在控制成本保证量测效率的前提下,提升关键尺寸量测的准确性和稳定性。

专利主权项内容

1.一种关键尺寸的量测方法,其特征在于,所述方法包括:S1、获取多张待测对象对应的目标量测图像,多张所述目标量测图像为所述待测对象在显微镜的焦深范围的情况下,所述待测对象的关键尺寸对应的至少五张图像;S2、对多张所述目标量测图像做灰度投影处理,得到多张所述目标量测图像对应的多条一维曲线;S3、叠加多张所述目标量测图像对应的多条一维曲线,生成目标合成图像;S4、在所述目标合成图像上建立第一区域,所述第一区域的高度等于所述显微镜的焦深大小;S5、基于所述第一区域对所述目标合成图像做灰度投影处理,得到目标合成图像对应的一维曲线;S6、对所述目标合成图像对应的一维曲线求导并插值,得到量测信息;S7、基于所述量测信息计算所述待测对象的关键尺寸结果。