薄膜沉积设备
申请人信息
- 申请人:上海陛通半导体能源科技股份有限公司
- 申请人地址:201201 上海市浦东新区庆达路315号13幢3F
- 发明人: 上海陛通半导体能源科技股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 薄膜沉积设备 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311827358.7 |
| 申请日 | 2023/12/28 |
| 公告号 | CN117467962B |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | C23C14/50 |
| 权利人 | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
| 发明人 | 蔡军; 宋维聪 |
| 地址 | 上海市浦东新区庆达路315号13幢3F |
摘要文本
上海陛通半导体能源科技股份有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术，本申请公开了一种薄膜沉积设备，包括：工艺腔、磁流体加热器、悬浮稳定装置和旋转传动装置；磁流体加热器包括平台和旋转基座；旋转基座连接平台下部，旋转基座可带动磁流体加热器旋转；悬浮稳定装置包括分别设置于工艺腔和磁流体加热器上的磁铁对；旋转传动装置包括设置于磁流体加热器上靠近工艺腔的表面的若干第一旋转永磁铁、设置于工艺腔底部的旋转台，以及设置于旋转台中的若干第二旋转永磁铁；旋转台通过第一旋转永磁铁和第二旋转永磁铁的相互作用带动磁流体加热器旋转。本申请通过引入由磁体旋转传动结构供能的磁流体加热器，结合磁体和气浮稳定结构，可避免因运动部件接触摩擦导致的颗粒污染物问题，有助于提高生产良率。
专利主权项内容
1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括：工艺腔、磁流体加热器、悬浮稳定装置和旋转传动装置；所述磁流体加热器包括用于放置晶圆的平台和旋转基座；所述旋转基座位于所述平台下方且连接所述平台的中心位置，并通过所述悬浮稳定装置安装于所述工艺腔的底部；所述旋转基座可带动所述磁流体加热器绕垂直于所述平台的晶圆放置面的一旋转轴进行旋转；所述磁流体加热器的内部包含磁流体和非磁性金属粉颗粒，其在进行旋转时产生热量，并加热所述晶圆；所述悬浮稳定装置包括分别设置于所述工艺腔和所述磁流体加热器上的、具有互斥极性的磁铁对，所述磁铁对通过斥力使所述磁流体加热器在所述旋转轴的轴向和径向上相对所述工艺腔保持稳定；所述旋转传动装置包括设置于所述磁流体加热器背离晶圆的一面的若干第一旋转永磁铁、设置于所述工艺腔底部的旋转台，以及设置于所述旋转台中的若干第二旋转永磁铁，所述第一旋转永磁铁和所述第二旋转永磁铁为成对设置，并具有相反的磁性；所述旋转台通过所述第一旋转永磁铁和所述第二旋转永磁铁的相互作用带动所述磁流体加热器旋转。 关注微信公众号马克数据网