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一种基片的真空干燥装置及加工系统

申请号: CN202420927262.1
申请人: 武汉国创科光电装备有限公司
更新日期: 2026-06-12

摘要文本

武汉国创科光电装备有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本申请涉及一种基片的真空干燥装置及加工系统,该基片的真空干燥装置包括:支撑件;输送组件,输送组件安装于支撑件,且输送组件用于支撑并输送基片;罩体,罩体位于支撑件上方,罩体下方开口设置;升降驱动组件,升降驱动组件与支撑件,和/或,罩体驱动连接,以带动支撑件或罩体升降运动,以使罩体适于扣合于支撑件,罩体和支撑件适于形成密封腔,输送组件位于密封腔内;负压装置,罩体,和/或,支撑件上开设有抽气口,负压装置的抽气端与抽气口连通。本申请利用输送组件对基片进行上下料,且设置升降驱动组件分离或扣合支撑件和罩体,优化了基片的上下料流程,提高了干燥加工效率,适用于基片的大批量干燥处理。。该数据由<>整理

专利主权项内容

1.一种基片的真空干燥装置,其特征在于,其包括:
支撑件;
输送组件,所述输送组件安装于所述支撑件,且所述输送组件用于支撑并输送基片;
罩体,所述罩体位于所述支撑件上方,所述罩体下方开口设置;
升降驱动组件,所述升降驱动组件与所述支撑件,和/或,所述罩体驱动连接,以带动所述支撑件或所述罩体升降运动,以使所述罩体适于扣合于所述支撑件,所述罩体和所述支撑件适于形成密封腔,所述输送组件位于所述密封腔内;
负压装置,所述罩体,和/或,所述支撑件上开设有抽气口,所述负压装置的抽气端与所述抽气口连通。 数据由 团 队整理

专利申请信息

项目 内容
专利名称 一种基片的真空干燥装置及加工系统
专利类型 实用新型
申请号 CN202420927262.1
申请日 2024/4/29
公告号 CN222148134U
公开日 2024/12/10
IPC主分类号 H10K71/00
权利人 武汉国创科光电装备有限公司
发明人 危银长; 付宇; 张友志; 唐伟
地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区左岭镇左岭路117号光电子配套产业园一期厂房1号楼