← 返回列表
清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体工艺设备
申请人信息
- 申请人:北京北方华创微电子装备有限公司
- 申请人地址:100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
- 发明人: 北京北方华创微电子装备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 清洁装置、清洁腔室及其控制方法、半导体工艺设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311405984.7 |
| 申请日 | 2023/10/26 |
| 公告号 | CN117431522A |
| 公开日 | 2024/1/23 |
| IPC主分类号 | C23C14/56 |
| 权利人 | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 发明人 | 胡伟杰 |
| 地址 | 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号 |
摘要文本
本申请公开一种清洁装置。所公开的清洁装置包括箱体(10)、冷凝部(20)、加热器(30)和承载座(40)，箱体(10)具有容置空间(13)，冷凝部(20)和承载座(40)均位于容置空间(13)中，且冷凝部(20)位于承载座(40)的上方；承载座(40)用于承载待清洁物(50)；加热器(30)用于加热被放置于承载座(40)上的待清洁物(50)，以使待清洁物(50)的表面的沉积物升华后凝结在冷凝部(20)上。本申请还公开一种清洁腔室、清洁腔室的控制方法及半导体工艺设备。上述方案能解决相关技术通过人工对沉积在待清洁物上的沉积物进行清洁而存在工艺质量较差、工艺成本较高、工艺效率较低的问题。
专利主权项内容
1.一种清洁装置，其特征在于，包括箱体(10)、冷凝部(20)、加热器(30)和承载座(40)，其中：所述箱体(10)具有容置空间(13)，所述冷凝部(20)和所述承载座(40)均位于所述容置空间(13)中，且所述冷凝部(20)位于所述承载座(40)的上方；所述承载座(40)用于承载待清洁物(50)；所述加热器(30)用于加热被放置于所述承载座(40)上的所述待清洁物(50)，以使所述待清洁物(50)的表面的沉积物升华后凝结在所述冷凝部(20)上。 详见官网：