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盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备
申请人信息
- 申请人:北京北方华创微电子装备有限公司
- 申请人地址:100176 北京市大兴区经济技术开发区文昌大道8号
- 发明人: 北京北方华创微电子装备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311737419.0 |
| 申请日 | 2023/12/15 |
| 公告号 | CN117727660A |
| 公开日 | 2024/3/19 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 发明人 | 刘东旭; 王广永 |
| 地址 | 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号 |
摘要文本
本发明公开一种盖体装置、工艺腔室及半导体工艺设备，其中，所公开的盖体装置包括盖体(12)、固定座(41)和盖体座(42)，所述盖体座(42)的第一端转动地连接于所述固定座(41)上，所述盖体座(42)的第二端可绕所述盖体座(42)的第一端转动，以使所述盖体座(42)在第一状态与第二状态之间切换；在所述盖体座(42)处在所述第一状态下，所述盖体(12)相对于预设平面倾斜，并可相对于所述盖体座(42)移动；在所述盖体座(42)处在所述第二状态下，所述盖体(12)与所述预设平面平行。上述方案能解决相关技术涉及的工艺腔室存在密封不严的问题。
专利主权项内容
1.一种盖体装置，其特征在于，包括盖体(12)、固定座(41)和盖体座(42)，所述盖体座(42)的第一端转动地连接于所述固定座(41)上，所述盖体座(42)的第二端可绕所述盖体座(42)的第一端转动，以使所述盖体座(42)在第一状态与第二状态之间切换；在所述盖体座(42)处在所述第一状态下，所述盖体(12)相对于预设平面倾斜，并可相对于所述盖体座(42)移动；在所述盖体座(42)处在所述第二状态下，所述盖体(12)与所述预设平面平行。