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一种基于苝酰亚胺制备超大单晶晶体管器件的方法

申请号: CN202311720432.5
申请人: 巢湖学院
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于苝酰亚胺制备超大单晶晶体管器件的方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311720432.5
申请日 2023/12/14
公告号 CN117693269A
公开日 2024/3/12
IPC主分类号 H10K71/12
权利人 巢湖学院
发明人 邓雅丹; 张自锋; 王青尧; 廖生温
地址 安徽省合肥市巢湖经济开发区半汤路1号巢湖学院

摘要文本

该数据由<专利查询网>整理 。本发明公开了一种基于苝酰亚胺制备超大单晶晶体管器件的方法,涉及有机光电子技术领域,包括以下步骤:准备好Si/SiO2衬底;随后对衬底进行表面处理;再将苝酰亚胺超大单晶分散液滴于衬底表面;将干净的纸片盖于溶液表面,促进溶剂挥发和单晶均匀分散;随后对器件进行热处理,以使单晶与衬底表面有良好的接触;然后将器件送入蒸镀舱,蒸镀金电极,作为晶体管器件的源、漏电极;本发明制备工艺简单、不受固体表面特性和溶剂沸点的影响,可操控性强且重复率高,容易在稳定的环境中形成分子排列有序、结晶度高,内部缺陷少的超大单晶,更有利于后续器件的制备,其次本发明制备的苝酰亚胺超大单晶比表面积大,作为平面器件的活性层,电子传输能力更强。

专利主权项内容

1.一种基于苝酰亚胺制备超大单晶晶体管器件的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、准备好Si/SiO衬底;随后对衬底进行表面处理;2S2、再将苝酰亚胺超大单晶分散液滴于衬底表面;S3、将干净的纸片盖于溶液表面,促进溶剂挥发和单晶均匀分散;S4、随后对器件进行热处理,以使单晶与衬底表面有良好的接触;S5、然后将器件送入蒸镀舱,蒸镀金电极,作为晶体管器件的源、漏电极,从而得到单晶晶体管器件;所述单晶晶体管器件的结构从下到上由以下几个部分组成:采用Si作为器件的的栅极,同时作为整个器件的衬底,为器件提供栅压;采用SiO作为器件的介电层,栅压通过介电层在半导体界面吸引电荷;2采用PTCDI-C8作为器件的活性层,为器件提供导电通道;采用Au作为器件的源、漏电极,促进半导体中载流子的传输与收集。