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一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源
申请人信息
- 申请人:安徽大学
- 申请人地址:230601 安徽省合肥市经济技术开发区九龙路111号
- 发明人: 安徽大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311460513.6 |
| 申请日 | 2023/11/6 |
| 公告号 | CN117410726A |
| 公开日 | 2024/1/16 |
| IPC主分类号 | H01Q21/00 |
| 权利人 | 安徽大学 |
| 发明人 | 赵鲁豫; 李昌壕; 李迎松; 黄志祥 |
| 地址 | 安徽省合肥市蜀山区九龙路111号安徽大学磬苑校区 |
摘要文本
本发明公开一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源，包括：自上而下设置的，金属反射面、介质块、标准圆波导及底座；其中金属反射面自上而下包括金属圆柱及金属曲面结构；介质块自上而下包括介质圆台及阶梯状结构；金属曲面结构的下表面为金属反射曲面，介质圆台的上表面为介质曲面；金属反射曲面与介质曲面相贴合；介质曲面由截取椭圆的部分曲线旋转而成且介质曲面的横截面直径自上而下逐渐减小；阶梯状结构包括自上而下直径逐渐减小且中心在同一直线设置的若干个圆柱形介质柱，若干个圆柱形介质柱厚度相同；在馈源中，电磁波通过同轴馈电的方式进入标准圆波导中向上传输，通过介质块，在金属反射面的作用下向下辐射。
专利主权项内容
1.一种应用于低剖面反射、透射阵的反射式环焦馈源，其特征在于，包括：自上而下依次设置的，金属反射面、介质块、标准圆波导及底座；其中所述金属反射面自上而下包括金属圆柱及金属曲面结构；所述介质块自上而下包括介质圆台及阶梯状结构；所述金属曲面结构的下表面为金属反射曲面，所述介质圆台的上表面为介质曲面；所述金属反射曲面与介质曲面相贴合；所述介质曲面由截取椭圆的部分曲线旋转而成且介质曲面的横截面直径自上而下逐渐减小；所述阶梯状结构包括自上而下直径逐渐减小且中心在同一直线设置的若干个圆柱形介质柱，所述若干个圆柱形介质柱厚度相同；在所述馈源中，电磁波通过同轴馈电的方式进入标准圆波导中向上传输，通过介质块，在金属反射面的作用下向下辐射。