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10.6μm激光高透过的红外低辐射材料
申请人信息
- 申请人:济南能谱航空科技有限公司
- 申请人地址:250098 山东省济南市高新区崇华路以东世纪财富中心C座1113室
- 发明人: 济南能谱航空科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 10.6μm激光高透过的红外低辐射材料 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311353556.4 |
| 申请日 | 2023/10/18 |
| 公告号 | CN117348124A |
| 公开日 | 2024/1/5 |
| IPC主分类号 | G02B1/115 |
| 权利人 | 济南能谱航空科技有限公司 |
| 发明人 | 于媛媛; 李长平 |
| 地址 | 山东省济南市高新区崇华路以东世纪财富中心C座1113室 |
摘要文本
本发明公开了10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，包括玻璃基材，位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜，以及位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体，一维光子晶体为竖向多层分布，一维光子晶体内设置有缺陷层，且激光减反射膜和一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜，一维光子晶体包括交替排列的高折射率材料层和低折射率材料层；本发明具有10.6μm激光透过率≥99％，8μm‑14μm红外波段平均辐射率≤0.15，良好的疏水和疏油性能、良好的耐候性等特点，可用于10.6μm激光窗口的红外特征抑制。
专利主权项内容
1.10.6μm激光高透过的红外低辐射材料，其特征在于，包括：玻璃基材；位于玻璃基材的一侧的激光减反射膜；以及，位于玻璃基材的另一侧的一维光子晶体；其中，所述一维光子晶体为竖向多层分布，所述一维光子晶体内设置有缺陷层，且所述激光减反射膜和所述一维光子晶体的最外层均设置有类金刚石保护膜。