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一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用
申请人信息
- 申请人:中节能万润股份有限公司
- 申请人地址:264006 山东省烟台市经济技术开发区五指山路11号
- 发明人: 中节能万润股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311798324.X |
| 申请日 | 2023/12/26 |
| 公告号 | CN117447885A |
| 公开日 | 2024/1/26 |
| IPC主分类号 | C09D133/14 |
| 权利人 | 中节能万润股份有限公司 |
| 发明人 | 付海超; 赵洪祥; 曹晓雷; 杨丽; 刘锁伟; 杨德志 |
| 地址 | 山东省烟台市经济技术开发区五指山路11号 |
摘要文本
本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及一种光刻胶顶层涂层聚合物、制备方法及组合物和应用，所述光刻胶顶层涂层聚合物包括如下聚合物1和聚合物2：聚合物1；聚合物2；a、b、c、x、y、z分别是基于聚合物中重复单元的质量分数，a选自18‑60%，b选自1‑20%，c选自30‑80%；x选自1‑15%，y选自5‑30%，z选自60~90%；聚合物1和聚合物2的分子量选自1000‑40000Da，聚合物1和聚合物2的分子量分散系数选自1.0‑4.0。本发明所述聚合物能够有效减少浸没式曝光时光致产酸剂对光学镜头的污染，且配制的光刻胶顶层涂层具有较高的接触角。
专利主权项内容
1.一种光刻胶顶层涂层聚合物，其特征在于，所述光刻胶顶层涂层聚合物包括如下聚合物1和聚合物2：
聚合物1；
聚合物2；a、b、c、x、y、z分别是基于聚合物中重复单元的质量分数，a选自18-60%，b选自1-20%，c选自30-80%；x选自1-15%，y选自5-30%，z选自60~90%；聚合物1和聚合物2的分子量选自1000-40000Da，聚合物1和聚合物2的分子量分散系数选自1.0-4.0。