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一种周期脉冲高能离子注入机

申请号: CN202311591526.7
申请人: 青岛四方思锐智能技术有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种周期脉冲高能离子注入机
专利类型 发明申请
申请号 CN202311591526.7
申请日 2023/11/27
公告号 CN117393409A
公开日 2024/1/12
IPC主分类号 H01J37/317
权利人 青岛四方思锐智能技术有限公司
发明人 聂翔; 陈祥龙; 张浩; 王书松
地址 山东省青岛市自由贸易试验区青岛片区前湾保税港区北京路45号东办公楼二楼205-5-7室(A)

摘要文本

本公开实施例提供一种周期脉冲高能离子注入机,涉及半导体离子注入技术领域。该周期脉冲高能离子注入机的具体实施方式包括:周期脉冲离子源周期性地产生高密度等离子体,由引出抑制电极和三坐标引出电极引出离子束,经过质量分析器的质量筛选之后传输给周期脉冲射频加速系统,周期脉冲射频加速系统的射频脉冲的脉冲周期与周期脉冲离子源的离子源脉冲的脉冲周期同步,将质量筛选之后的离子束加速至高能量状态,加速后的离子束传输至能量分析器进行能量筛选,通过离子束扫描装置展开经过能量筛选之后的离子束,再经由束流平行化透镜产生平行的离子束,最后传输至靶室完成注入。该实施方式能够降低机台能耗和面积,提升注入离子能量。 专利查询网

专利主权项内容

1.一种周期脉冲高能离子注入机,其特征在于,包括:周期脉冲离子源(101)、引出抑制电极(102)、三坐标引出电极(103)、质量分析器(104)、周期脉冲射频加速系统(105)、能量分析器(106)、离子束扫描装置(107)、束流平行化透镜(108)和靶室(109),其中:所述周期脉冲离子源(101)周期性地产生高密度等离子体,由所述引出抑制电极(102)和所述三坐标引出电极(103)引出离子束(110),经过所述质量分析器(104)的质量筛选之后传输给所述周期脉冲射频加速系统(105),所述周期脉冲射频加速系统(105)的射频脉冲的脉冲周期与所述周期脉冲离子源(101)的离子源脉冲的脉冲周期同步,由所述周期脉冲射频加速系统(105)将质量筛选之后的离子束(110)加速至高能量状态,加速后的离子束(110)传输至所述能量分析器(106)进行能量筛选,通过所述离子束扫描装置(107)在至少一个方向上展开经过能量筛选之后的离子束(110),再经由所述束流平行化透镜(108)产生平行的离子束(110),最后传输至所述靶室(109)完成注入。