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一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法
申请人信息
- 申请人:青岛天仁微纳科技有限责任公司
- 申请人地址:266000 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房
- 发明人: 青岛天仁微纳科技有限责任公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311479806.9 |
| 申请日 | 2023/11/8 |
| 公告号 | CN117492326A |
| 公开日 | 2024/2/2 |
| IPC主分类号 | G03F7/004 |
| 权利人 | 青岛天仁微纳科技有限责任公司 |
| 发明人 | 冀然; 房臣 |
| 地址 | 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房 |
摘要文本
本发明公开了一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法，主要涉及感光材料技术领域。所述的纳米压印光刻胶包括以下重量份组分：环氧丙烯酸酯30‑40份、丙二醇甲醚醋酸酯55‑65份、活性稀释剂15‑25份、光引发剂1‑3份；所述光引发剂为三芳基硫鎓盐、二苯基碘六氟磷酸盐、三苯基氯化硫鎓盐、三苯基锍四氟硼酸盐中的一种或多种，所述活性稀释剂为2‑苯氧基乙基丙烯酸酯、2‑乙烯基六氟异丙醇和改性2‑乙烯基六氟异丙醇中的一种或多种，本发明发现改性后的2‑乙烯基六氟异丙醇与2‑苯氧基乙基丙烯酸酯复合使用可以改善机械性能，减小收缩应力，提高光学性能，光固化后树脂的热稳定性得到提高。
专利主权项内容
1.一种低粘的纳米压印光刻胶，其特征在于，包括以下组分：环氧丙烯酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、活性稀释剂、光引发剂。