一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统和方法

专利主权项内容

1.一种用于碳化硅晶圆的激光退火系统，其特征在于，包括：工艺台(100)，用于承托所述碳化硅晶圆；机械手(200)，用于取放所述工艺台(100)上的碳化硅晶圆；扫描装置(210)，安装在所述机械手(200)上，用于在所述机械手(200)将所述碳化硅晶圆放置在所述工艺台(100)上前，扫描该碳化硅晶圆的厚度信息；激光源(300)，安装在所述工艺台(100)上方，用于产生退火光束以对所述工艺台(100)上的碳化硅晶圆进行加热；第一驱动机构(400)，用于驱动所述工艺台(100)水平位移；控制器，用于在所述激光源(300)对所述碳化硅晶圆进行加热时根据扫描步长和扫描速度控制所述第一驱动机构(400)驱动所述工艺台(100)水平位移以对该碳化硅晶圆进行激光退火处理；所述控制器还用于在对所述碳化硅晶圆进行激光退火处理前，获取该碳化硅晶圆的厚度信息；所述控制器还用于根据所述厚度信息、标准厚度信息、标准退火距离信息和标准光斑大小信息确定实际光斑大小以确定所述扫描步长和所述扫描速度；所述确定所述扫描步长和所述扫描速度的过程包括根据所述实际光斑大小、所述标准光斑大小信息、预设扫描步长和预设扫描速度确定所述扫描步长和所述扫描速度。