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改进的一种提高光刻机分辨率的方法
申请人信息
- 申请人:吉通科技(广州)有限公司
- 申请人地址:510640 广东省广州市天河区元岗北街91号之三3楼C387室
- 发明人: 吉通科技(广州)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 改进的一种提高光刻机分辨率的方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311159318.X |
| 申请日 | 2023/9/10 |
| 公告号 | CN117608168A |
| 公开日 | 2024/2/27 |
| IPC主分类号 | |
| 权利人 | 吉通科技(广州)有限公司 |
| 发明人 | 冼剑光 |
| 地址 | 广东省广州市天河区元岗北街91号之三3楼C387室 |
摘要文本
吉通科技(广州)有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术，改进的一种提高光刻机分辨率的方法，本发明借鉴了单分子定位显微的核心思想，创造性地类比应用到光刻机领域。虽然形态上有很大差异，但是光刻机的核心本质也是光学成像技术，即把光掩模版上的精细图案通过光线的曝光投影复制到硅片上。光掩模版上两个挨得很近的点会让光刻机分辨不出，因而在硅片上形成模糊的图案。本发明采用光存储单元，光线在介质中存储，光子之间的间隔均匀由介质原子之间的相隔均匀来决定，利用磁场诱导透明的原理，可以将介质中的传播群速度变慢，离开介质后，光子在传播方向上的间隔变大，光刻机曝光的光线经过处理后，离开介质后光子之间的空间距离大于无干扰距离，光子之间不会再有衍射干扰，将光刻机分辨率大大提高。
专利主权项内容
1.改进的一种提高光刻机分辨率的方法，包括激光器和光慢光或者光存储单元，其特征在于，光刻机曝光的光线经过处理后，离开介质后光子之间的空间距离大于无干扰距离。