← 返回列表
离散化数字掩膜光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法
申请人信息
- 申请人:暨南大学
- 申请人地址:511443 广东省广州市番禺区兴业大道东855号暨南大学番禺校区
- 发明人: 暨南大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 离散化数字掩膜光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311274239.3 |
| 申请日 | 2023/9/28 |
| 公告号 | CN117331285A |
| 公开日 | 2024/1/2 |
| IPC主分类号 | G03F7/20 |
| 权利人 | 暨南大学 |
| 发明人 | 赵圆圆; 李文慧; 陈经涛; 段宣明 |
| 地址 | 广东省广州市黄埔大道西601号 |
摘要文本
暨南大学获取“一种透气窗帘布”专利技术，本发明公开了一种离散化数字掩膜光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法，应用于无掩模投影光刻领域，包括：基于液晶空间调制器的灰度与归一化输出强度的线性关系曲线，根据目标光刻图案的线宽及间距要求，基于成像规则迭代优化得到对应的像素化灰度掩膜；通过计算机控制液晶空间调制器加载像素化灰度掩膜，对经半波片调制为水平偏振态的入射匀化光场进行离散化调制，进入偏振分光棱镜反射得到目标光场分布；目标光场分布被投影物镜收集并缩放至光刻胶层，得到符合线宽及间距要求的目标光刻图案。本发明克服了空间光调制器离散像素量化造成的光刻线宽与线条间距只能在单像素大小的基础上成倍缩小，而较难实现高精度可控的任意值线宽与间距的问题。
专利主权项内容
1.一种离散化数字掩膜光刻生产任意线宽和任意间距图案的方法，其特征在于，包括：步骤(1)：基于液晶空间调制器的灰度与归一化输出强度的线性关系曲线，根据目标光刻图案的线宽及间距要求，基于数字灰度掩膜投影成像规则迭代优化得到对应的像素化灰度掩膜；步骤(2)：通过计算机控制所述液晶空间调制器加载所述像素化灰度掩膜，对经半波片调制为水平偏振态的入射匀化光场进行离散化调制，进入偏振分光棱镜反射得到目标光场分布；步骤(3)：所述目标光场分布被投影物镜收集并缩放至光刻胶层，得到符合所述线宽及间距要求的目标光刻图案。