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一种基于多次喷涂的光刻胶涂布方法、装置、设备及介质
申请人信息
- 申请人:粤芯半导体技术股份有限公司
- 申请人地址:510700 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号
- 发明人: 粤芯半导体技术股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种基于多次喷涂的光刻胶涂布方法、装置、设备及介质 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311841817.7 |
| 申请日 | 2023/12/29 |
| 公告号 | CN117492328A |
| 公开日 | 2024/2/2 |
| IPC主分类号 | G03F7/16 |
| 权利人 | 粤芯半导体技术股份有限公司 |
| 发明人 | 赵鹏 |
| 地址 | 广东省广州市黄埔区凤凰五路28号 |
摘要文本
粤芯半导体技术股份有限公司获取“一种透气窗帘布”专利技术，本申请提供了一种基于多次喷涂的光刻胶涂布方法、装置、设备及介质，涉及半导体集成电路制造技术领域，该方法包括：控制待涂布晶圆以第一转速旋转，利用喷嘴向待涂布晶圆的目标区域喷涂第一预设量的光刻胶，以在待涂布晶圆上形成光刻胶圆环，目标区域为位于晶圆中心外的圆环区域；控制待涂布晶圆以第二转速旋转，以使光刻胶均匀覆盖于待涂布晶圆的部分表面，第二转速大于第一转速；利用喷嘴向待涂布晶圆的中心位置喷涂第二预设量的光刻胶，控制待涂布晶圆以第三转速旋转，以使光刻胶均匀覆盖于待涂布晶圆的全部表面。通过采用上述基于多次喷涂的光刻胶涂布方法、装置、设备及介质，解决了光刻胶涂布过程中，光刻胶利用率较低的问题。
专利主权项内容
1.一种基于多次喷涂的光刻胶涂布方法，其特征在于，包括：控制待涂布晶圆以第一转速旋转，利用喷嘴向所述待涂布晶圆的目标区域喷涂第一预设量的光刻胶，以在所述待涂布晶圆上形成光刻胶圆环，所述目标区域为位于晶圆中心外的圆环区域；控制所述待涂布晶圆以第二转速旋转，以使光刻胶均匀覆盖于所述待涂布晶圆的部分表面，且所述部分表面由亲水性变为疏水性，所述第二转速大于所述第一转速；利用所述喷嘴向所述待涂布晶圆的中心位置喷涂第二预设量的光刻胶，控制所述待涂布晶圆以第三转速旋转，以使光刻胶均匀覆盖于所述待涂布晶圆的全部表面。