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一种具有低反向恢复电荷的AC-SJ MOS及制备方法

申请号: CN202311854198.5
申请人: 深圳天狼芯半导体有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种具有低反向恢复电荷的AC-SJ MOS及制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311854198.5
申请日 2023/12/29
公告号 CN117497603A
公开日 2024/2/2
IPC主分类号 H01L29/78
权利人 深圳天狼芯半导体有限公司
发明人 贺俊杰
地址 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南路18号深圳湾科技生态园12栋裙楼904-905

摘要文本

深圳天狼芯半导体有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本发明公开了一种具有低反向恢复电荷的AC‑SJ MOS及制备方法,具有低反向恢复电荷的AC‑SJ MOS包括栅极扩展结构,其中栅极扩展结构包括第一栅极、第一N柱、P+层以及第一衬底。第一衬底位于漏极上方,并与漏极和P+层邻接;P+层位于第一衬底和第一N柱之间,并与第一N柱邻接;第一N柱位于第一栅极和P+层之间,并与第一栅极邻接;第一栅极位于N柱上方。本发明提供的具有低反向恢复电荷的AC‑SJ MOS在传统的SJ MOS基础上设置栅极扩展结构,减少了P柱的数量,进而减少了反向导通时在P柱中积累的电子,减少了反向恢复电荷,优化了反向恢复特性,使得器件的反向恢复电流更小,降低了器件的功耗。

专利主权项内容

1.一种具有低反向恢复电荷的AC-SJ MOS,其特征在于,包括:栅极扩展结构;所述栅极扩展结构包括第一栅极、第一N柱、P+层以及第一衬底;所述第一衬底位于漏极上方,并与所述漏极和所述P+层邻接;所述P+层位于所述第一衬底和所述第一N柱之间,并与所述第一N柱邻接;所述第一N柱位于所述第一栅极和所述P+层之间,并与所述第一栅极邻接;所述第一栅极位于所述第一N柱上方。