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一种栅极下方具有P型空间层的SiC LIGBT及制备方法

申请号: CN202311778304.6
申请人: 深圳天狼芯半导体有限公司
更新日期: 2026-03-09

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种栅极下方具有P型空间层的SiC LIGBT及制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311778304.6
申请日 2023/12/22
公告号 CN117457732A
公开日 2024/1/26
IPC主分类号 H01L29/739
权利人 深圳天狼芯半导体有限公司
发明人 乔凯
地址 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南路18号深圳湾科技生态园12栋裙楼904-905

摘要文本

深圳天狼芯半导体有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本发明提供一种栅极下方具有P型空间层的SiC LIGBT及制备方法,该SiC LIGBT包括:P型空间层;所述P型空间层位于栅极与漂移层之间,并与栅极氧化层、N+区、P+区和漂移层邻接。本发明在沟槽栅极下方引入了P型空间层,因为P型空间层的厚度很薄,所以当栅极接正电压的时候,在较低的栅极电压下就会在P型空间层形成反型层,从而形成从发射极到N+区,从N+区到P型空间层,从P型空间层到漂移层最后到集电极的导电通路,栅极氧化层与碳化硅界面迁移率低,电阻大,导电通路短路了栅极氧化层的界面沟道,从而降低了SiC LIGBT的导通电阻。

专利主权项内容

1.一种栅极下方具有P型空间层的SiC LIGBT,其特征在于,包括:P型空间层;所述P型空间层位于栅极与漂移层之间,并与栅极氧化层、N+区、P+区和漂移层邻接。