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一种低维纳米材料在DNA特异性位点的识别剪切上的应用
申请人信息
- 申请人:清华大学深圳国际研究生院
- 申请人地址:518000 广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼
- 发明人: 清华大学深圳国际研究生院
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种低维纳米材料在DNA特异性位点的识别剪切上的应用 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311280693.X |
| 申请日 | 2023/10/7 |
| 公告号 | CN117363607A |
| 公开日 | 2024/1/9 |
| IPC主分类号 | C12N15/10 |
| 权利人 | 清华大学深圳国际研究生院 |
| 发明人 | 雷钰; 王聪; 赵樱灿; 吴梦涵 |
| 地址 | 广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼 |
摘要文本
本发明公开了一种低维纳米材料在DNA特异性位点的识别剪切上的应用，将低维纳米材料溶液与DNA溶液混合，从而利用低维纳米材料的催化活性对DNA的特异性位点进行识别剪切；其中，所述DNA具有至少一个由至少7个连续的碱基T组成的特异性位点。本发明具有无需外界光和金属离子驱动剪切，无需氨基酸等有机材料修饰，剪切效率高、对温度容忍度高等优点，实现了无机低维纳米材料对DNA特异性位点的识别剪切。 关注微信公众号专利查询网
专利主权项内容
1.一种低维纳米材料在DNA特异性位点的识别剪切上的应用，其特征在于：将低维纳米材料溶液与DNA溶液混合，从而利用低维纳米材料的催化活性对DNA的特异性位点进行识别剪切；其中，所述DNA具有由至少7个连续的碱基T组成的特异性位点。