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半导体器件的缺陷分析方法、装置、可读介质及电子设备

申请号: CN202311524799.X
申请人: 深圳市昇维旭技术有限公司
更新日期: 2026-03-09

摘要文本

深圳市昇维旭技术有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术,本申请的实施例提供了一种半导体器件的缺陷分析方法、装置、可读介质及电子设备。该缺陷分析方法包括:获取缺陷扫描程序通过多个扫描尺寸对半导体器件进行扫描所得到的多个缺陷扫描结果,其中,一个扫描尺寸对应于一个缺陷扫描结果;获取所述缺陷扫描程序通过所述多个扫描尺寸对所述半导体器件分别扫描的区域,得到各个扫描尺寸对应的扫描区域;根据所述各个扫描尺寸对应的扫描区域,计算所述多个扫描尺寸对应的重叠扫描区域;根据所述多个缺陷扫描结果中分别处于所述重叠扫描区域内的缺陷数据,对所述半导体器件进行缺陷来源分析。本申请实施例的技术方案可以精确定位半导体器件中的缺陷位置,有效提高了对半导体器件进行缺陷分析的准确性。

专利主权项内容

1.一种半导体器件的缺陷分析方法,其特征在于,包括:获取缺陷扫描程序通过多个扫描尺寸对半导体器件进行扫描所得到的多个缺陷扫描结果,其中,一个扫描尺寸对应于一个缺陷扫描结果;获取所述缺陷扫描程序通过所述多个扫描尺寸对所述半导体器件分别扫描的区域,得到各个扫描尺寸对应的扫描区域;根据所述各个扫描尺寸对应的扫描区域,计算所述多个扫描尺寸对应的重叠扫描区域;根据所述多个缺陷扫描结果中分别处于所述重叠扫描区域内的缺陷数据,对所述半导体器件进行缺陷来源分析。。马-克-数据

专利申请信息

项目 内容
专利名称 半导体器件的缺陷分析方法、装置、可读介质及电子设备
专利类型 发明申请
申请号 CN202311524799.X
申请日 2023/11/15
公告号 CN117577550A
公开日 2024/2/20
IPC主分类号 H01L21/66
权利人 深圳市昇维旭技术有限公司
发明人 朱珂名; 赵雄
地址 广东省深圳市龙岗区平湖街道辅城坳社区新源三巷1号B栋104