一种测量装置的误差影响因素分析方法及测量装置

专利主权项内容

1.一种测量装置的误差影响因素分析方法，其特征在于，包括如下步骤：在所述测量装置的大理石座上安装基准组件，在所述基准组件上设置第一水平基准面和第二水平基准面，并且让所述第一水平基准面与所述第二水平基准面在竖直方向上具有一定的间距；让所述测量装置的激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据；分析所述激光传感器到所述第一水平基准面的多个距离数据之间的波动情况，以判断所述大理石座上用于安装所述激光传感器的导轨的水平度是否为误差影响因素；如所述导轨的水平度为误差影响因素，则先对所述导轨进行水平校准，再分析其他误差影响因素；如所述导轨的水平度非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素；让所述激光传感器在进行测量工作的过程中，一并采集所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据；根据所述激光传感器到所述第一水平基准面的距离数据以及所述激光传感器到所述第二水平基准面的距离数据，计算所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差；将所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的测量距离差，与所述第一水平基准面与所述第二水平基准面的实际距离差进行比较，以判断所述激光传感器的激光发射方向是否为误差影响因素；如所述激光传感器的激光发射方向为误差影响因素，则先对所述激光传感器的激光发射方向进行校准，再分析其他误差影响因素；如所述激光传感器的激光发射方向非误差影响因素，则继续分析其他误差影响因素。