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一种提高相衬光学相干层析的深度测量量程的方法
申请人信息
- 申请人:广东工业大学
- 申请人地址:510062 广东省广州市越秀区东风东路729号
- 发明人: 广东工业大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种提高相衬光学相干层析的深度测量量程的方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410068686.1 |
| 申请日 | 2024/1/17 |
| 公告号 | CN117574789A |
| 公开日 | 2024/2/20 |
| IPC主分类号 | G06F30/27 |
| 权利人 | 广东工业大学 |
| 发明人 | 曹鑫; 白玉磊; 董博; 何昭水; 谢胜利 |
| 地址 | 广东省广州市越秀区东风东路729号大院 |
摘要文本
本发明涉及层析测量的技术领域,提供一种提高相衬光学相干层析的深度测量量程的方法,包括:生成实验数据集;生成仿真数据集;构建过采样应变场重构模型,并基于实验数据集和仿真数据集对过采样应变场重构模型进行训练;通过训练完成的过采样应变场重构模型将欠采样下的混叠相位重构为过采样下的应变场。本发明采用数据驱动技术,通过大量实验数据与仿真数据来训练过采样应变场重构模型,实现欠采样下的混叠相位到过采样下的应变场高精度重构,进而提高相衬光学相干层析的深度测量量程。另外,本发明无需改变系统结构和参数,能显著降低系统对采样率的要求,有助于在不会牺牲成像分辨率和信噪比的情况下,实现材料内部深部区域的层析快速成像。
专利主权项内容
1.一种提高相衬光学相干层析的深度测量量程的方法,其特征在于,包括:生成实验数据集;生成仿真数据集;构建过采样应变场重构模型,并基于生成的实验数据集和仿真数据集对过采样应变场重构模型进行训练;通过训练完成的过采样应变场重构模型将欠采样下的混叠相位重构为过采样下的应变场,进而提高相衬光学相干层析的深度测量量程。