一种全息镭射膜色差控制方法及低色差全息镭射膜

专利主权项内容

1.一种全息镭射膜色差控制方法，该方法用于一种全息镭射膜生产设备，该设备包括全息模压机(1)、真空镀膜机(2)、放卷装置(3)、收卷装置(4)、红外发射装置(5)和移动装置(6)，其中真空镀膜机(2)包括多个蒸发系统，每个蒸发系统中包括有一个蒸发舟(21)，红外发射装置(5)包括红外发射二极管(51)、红外接收二极管(52)、控制器和显色发光二极管，低色差全息镭射膜(7)由PET薄膜(71)、涂布离型层(72)、激光全息模压图案层(73)和真空镀铝(74)构成；其特征在于，具体步骤如下：S1、确定基准值，根据需要预设一个亮度阈值，使得设备预先运行并在通过设备产出的产品中选取试验膜，测量试验膜的亮度分布情况，并在试验膜上选取位于亮度阈值中的亮度值以及生产该亮度值时对应的设备参数，所选取的亮度值和所述对应的设备参数为基准值；S2、在线加工，将确定的基准值输入到设备内，重新启动设备进行生产，设备中的真空镀膜机(2)根据基准值自动调整镀膜厚度。