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一种BAW滤波器晶圆级封装方法

申请号: CN202410066659.0
申请人: 深圳新声半导体有限公司
更新日期: 2026-03-17

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种BAW滤波器晶圆级封装方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410066659.0
申请日 2024/1/17
公告号 CN117579015A
公开日 2024/2/20
IPC主分类号 H03H3/02
权利人 深圳新声半导体有限公司
发明人 魏彬; 邹洁; 唐供宾
地址 广东省深圳市福田区梅林街道梅都社区中康路136号深圳新一代产业园3栋801

摘要文本

本申请公开了一种BAW滤波器晶圆级封装方法,该方法包括:将提供的第一BAW晶圆的第一表面和第二BAW晶圆的第一表面贴合后,进行晶圆级键合,对晶圆级键合后的BAW晶圆的第一表面进行刻蚀形成硅通孔,使晶圆级键合后的金属焊垫暴露出来,在BAW晶圆的第一表面的非硅通孔区域沉积金属种子层后,在硅通孔中电镀铜后,在形成的铜表面电镀凸点,形成晶圆级封装的BAW滤波器;电镀凸点的过程进行回流焊。其中,通过将作为发送端的第一BAW晶圆和作为接收端的第二BAW晶圆键合在一起,实现三维堆叠,使得占用的面积直接减小一半,便于芯片集成和使用,实现芯片小型化和轻量化。

专利主权项内容

1.一种BAW滤波器晶圆封装方法,其特征在于,所述方法包括:提供第一BAW晶圆和第二BAW晶圆;所述第一BAW晶圆的晶圆尺寸和所述第二BAW晶圆的晶圆尺寸相同;设置在所述第一BAW晶圆的第一表面的第一金属焊垫和设置在所述第二BAW晶圆的第一表面的第二金属焊垫相对应;将所述第一BAW晶圆的第一表面和所述第二BAW晶圆的第一表面贴合后,进行晶圆级键合;所述第一BAW晶圆的第二表面作为晶圆级键合后的BAW晶圆的第一表面;所述第二BAW晶圆的第二表面作为所述BAW晶圆的第二表面;对所述BAW晶圆的第一表面进行刻蚀,形成硅通孔;所述硅通孔使晶圆级键合后的金属焊垫暴露出来;在所述BAW晶圆的第一表面的非硅通孔区域沉积金属种子层后,在所述硅通孔中电镀铜后,形成铜表面;所述铜表面与所述硅通孔对应;在所述铜表面电镀凸点,形成晶圆级封装的BAW滤波器;所述电镀凸点的过程进行回流焊。