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薄膜表面声波滤波器及其制作方法

申请号: CN202410159953.6
申请人: 深圳新声半导体有限公司
更新日期: 2026-03-17

专利详细信息

项目 内容
专利名称 薄膜表面声波滤波器及其制作方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410159953.6
申请日 2024/2/4
公告号 CN117713741A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 H03H9/25
权利人 深圳新声半导体有限公司
发明人 魏彬; 邹洁; 唐供宾
地址 广东省深圳市福田区梅林街道梅都社区中康路136号深圳新一代产业园3栋801

摘要文本

微信公众号专利查询网 。本申请涉及半导体器件技术领域,公开一种薄膜表面声波滤波器及其制作方法。其中,薄膜表面声波滤波器包括基板、IDT电极、焊盘金属层、保护层、支撑部、覆盖部和通孔。基板包括压电层和承载衬底。IDT电极设置于压电层的上方。焊盘金属层设置于承载衬底的上方,且与IDT电极电连接。保护层设置于承载衬底的上方。保护层覆盖于压电层和IDT电极并暴露焊盘金属层。支撑部设置于保护层,并暴露分别与IDT电极和焊盘金属层对应的区域。覆盖部设置于支撑部,且横跨IDT电极上方区域以与支撑部围合形成空腔;通孔通过暴露覆盖部与焊盘金属层对应的区域形成。本申请实现了薄膜表面声波滤波器的小型化、低成本化。

专利主权项内容

1.一种薄膜表面声波滤波器,其特征在于,包括:基板,包括压电层和设置于压电层的下方的承载衬底;IDT电极,设置于压电层的上方;焊盘金属层,设置于承载衬底的上方,且与IDT电极电连接;保护层,设置于承载衬底的上方,且保护层覆盖于压电层和IDT电极并暴露焊盘金属层;支撑部,设置于保护层,并暴露分别与IDT电极和焊盘金属层在垂直方向上对应的区域;覆盖部,设置于支撑部,且横跨IDT电极上方区域以与支撑部围合形成空腔;通孔,暴露覆盖部与焊盘金属层在垂直方向上对应的区域形成。