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一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法

申请号: CN202410114021.X
申请人: 南通硅胜新材料科技有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410114021.X
申请日 2024/1/27
公告号 CN117626206A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 C23C14/35
权利人 南通硅胜新材料科技有限公司
发明人 黄吕全
地址 江苏省南通市崇川区观音山街道新胜路158号迈普科技园12幢

摘要文本

本发明公开了一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法,涉及真空镀膜技术领域,该工艺方法包括以下步骤:S1、将待镀膜基材进行打磨抛光与清洗去杂处理,再置于干燥箱保存;S2、利用滴膜法在待镀膜基材表面制备单层密排的纳米底膜;S3、将待镀膜基材放置于真空镀膜设备内部的磁控溅射台顶端;S4、先采用直流磁控溅射技术在待镀膜基材表面进行自修复膜镀膜,再利用共溅射技术进行周期多层膜镀膜,并实时监测表面镀膜的应力;S5、依据应力监测结果对真空镀膜设备进行参数调整,直至得到满足性能需求的复合镀膜停止镀膜。本发明有效解决涂层中可能存在的应力问题,为最终得到性能优越的复合镀膜提供了可行且高效的制备途径。

专利主权项内容

1.一种基于干法镀的复合真空镀膜工艺方法,其特征在于,该工艺方法包括以下步骤:S1、将待镀膜基材进行打磨抛光与清洗去杂处理,再置于干燥箱保存;S2、利用滴膜法在所述待镀膜基材表面制备单层密排的纳米底膜;S3、将所述待镀膜基材放置于真空镀膜设备内部的磁控溅射台顶端;S4、先采用直流磁控溅射技术在所述待镀膜基材表面进行自修复膜镀膜,再利用共溅射技术进行周期多层膜镀膜,并实时监测表面镀膜的应力;S5、依据应力监测结果对所述真空镀膜设备进行参数调整,直至得到满足性能需求的复合镀膜停止镀膜,取出进行后处理得到最终的镀膜基材。