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一种真空镀膜的基体前处理工艺

申请号: CN202410109068.7
申请人: 南通硅胜新材料科技有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种真空镀膜的基体前处理工艺
专利类型 发明申请
申请号 CN202410109068.7
申请日 2024/1/26
公告号 CN117626172A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 C23C14/02
权利人 南通硅胜新材料科技有限公司
发明人 黄吕全
地址 江苏省南通市崇川区观音山街道新胜路158号迈普科技园12幢

摘要文本

本发明涉及真空镀膜领域,公开了一种真空镀膜的基体前处理工艺,该工艺包括以下步骤:将基体放入清洁液中,使用超声波去除基体表面的杂质,使用去离子水冲洗基体表面,使用热风对基体进行干燥处理;将干燥后的基体放入活化液中,并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构,增加基体表面的比表面积和活性;将活化后的基体放入涂层液中,并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层;对基体的参数进行采集,并对基体前处理进行监测。本发明改变基体表面的形貌,使其形成凹凸结构,增加基体表面的比表面积和活性,提高涂层的附着力和稳定性,根据实时的监测数据,动态调整电解条件,使凹凸结构达到预期的效果,同时避免过度电解导致基体表面的损伤。 来自-官网

专利主权项内容

1.一种真空镀膜的基体前处理工艺,其特征在于,该工艺包括以下步骤:S1、将需要真空镀膜的基体放入清洁液中,并使用超声波去除基体表面的杂质,且使用去离子水冲洗基体表面,同时使用热风对基体进行干燥处理;S2、将干燥后的基体放入活化液中,并使用电解方式使基体表面形成凹凸结构,增加基体表面的比表面积和活性;S3、将活化后的基体放入涂层液中,并使用浸渍方式在基体表面形成均匀的涂层;S4、对基体的参数进行采集,并对基体前处理进行监测。