← 返回列表

滤光单元的制造方法及滤光单元

申请号: CN202410107513.6
申请人: 衣金光学科技南通有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 滤光单元的制造方法及滤光单元
专利类型 发明申请
申请号 CN202410107513.6
申请日 2024/1/26
公告号 CN117631114A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 G02B5/20
权利人 衣金光学科技南通有限公司
发明人 萧玉焜; 李政哲; 刘佳府; 陈永昌; 黄丞铵
地址 江苏省南通市海安市高新区百川路300号4号楼

摘要文本

本发明涉及一种滤光单元的制造方法及滤光单元。滤光单元的制造方法包含切割步骤及分离步骤。切割步骤及分离步骤是利用不同的切割方式,对待处理滤光片进行切割。于切割步骤中,是于待处理滤光片上形成多个沟槽,且不切断待处理滤光片的基板。于分离步骤中,是沿沟槽切断基板,而使待处理滤光片形成为多个滤光单元。在进行分离步骤之前,待处理滤光片的有机染料层的侧壁的至少一部分受到一保护结构覆盖。

专利主权项内容

1.一种滤光单元的制造方法,其用以将一待处理滤光片切割为多个滤光单元,其特征在于:所述待处理滤光片至少包含一基板、一有机染料层及一无机光学复合层,所述无机光学复合层的厚度、所述有机染料层的厚度及所述基板的厚度分别定义为一第一厚度(D1)、一第二厚度(D2)及一第三厚度(D3),所述有机染料层的两侧分别设置所述基板及所述无机光学复合层,所述滤光单元的制造方法包含:一切割步骤:利用一第一切割方式,对所述待处理滤光片进行切割,以于所述待处理滤光片的一侧,形成多个沟槽,各个所述沟槽的深度定义为一预设深度(Q);所述预设深度(Q)、所述第一厚度(D1)、所述第二厚度(D2)及所述第三厚度(D3)符合:D1+D2+(D3*15%) ≥Q ≥ D1+(D2*50%)的关系式;一分离步骤:利用一第二切割方式,沿着多个所述沟槽,对所述待处理滤光片进行切割,以切断所述基板,而将所述待处理滤光片切割成多个所述滤光单元;所述第二切割方式不同于所述第一切割方式,其中,在进行所述分离步骤之前,所述有机染料层的侧壁的至少一部分受到一保护结构覆盖;其中,从剖面方向观察时,所述滤光单元的上侧及下侧分别具有一第一宽度(W1)及一第二宽度(W2),且所述第一宽度(W1)小于所述第二宽度(W2);所述基板位于所述滤光单元的下侧。