← 返回列表
一种具有硬质镀层的活塞环及其制备方法
申请人信息
- 申请人:仪征亚新科双环活塞环有限公司
- 申请人地址:211400 江苏省扬州市仪征市大庆南路5号
- 发明人: 仪征亚新科双环活塞环有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种具有硬质镀层的活塞环及其制备方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202410000422.2 |
| 申请日 | 2024/1/2 |
| 公告号 | CN117488300B |
| 公开日 | 2024/3/29 |
| IPC主分类号 | C23C28/00 |
| 权利人 | 仪征亚新科双环活塞环有限公司 |
| 发明人 | 李开顺; 刘千喜; 周月亭; 石关飞 |
| 地址 | 江苏省扬州市仪征市大庆南路5号 |
摘要文本
本发明属于活塞环表面处理技术领域，公开了一种具有硬质镀层的活塞环及其制备方法。外圆面从下至上依次为打底层、梯度金属氮化物层、DLC重复单元层；DLC重复单元层中的一个DLC单元层依次为DLC层、金属掺杂DLC层；端面铬镀层在活塞环基体的端面为铬镀层。本发明重复循环的DLC层和金属掺杂DLC层为微米厚度层和纳米厚度层的结合，形成微纳的层状结构，增加各镀层之间的结合力，降低镀层内部的应力，同时DLC层中金属的掺杂也可有效减小镀层应力，解决镀层剥落的问题。
专利主权项内容
1.一种具有硬质镀层的活塞环，其特征在于，所述活塞环的外圆面和端面分别具有硬质镀层；所述活塞环的外圆面硬质镀层在活塞环基体的外圆面从下至上依次为打底层、梯度金属氮化物层、DLC重复单元层；所述DLC重复单元层中的一个DLC单元层从下至上依次为DLC层、金属掺杂DLC层；所述DLC单元层的重复次数为2～10次；所述打底层为铬层；所述梯度金属氮化物层为梯度氮化钛层；所述金属掺杂DLC层为钛掺杂DLC层；所述打底层的厚度为1～4μm；所述梯度金属氮化物层的厚度为0.1～2μm；所述一个DLC单元层中DLC层的厚度为1～10μm；所述一个DLC单元层中金属掺杂DLC层的厚度为300～500nm；所述DLC重复单元层的总厚度为20～40μm；所述活塞环的端面硬质镀层在活塞环基体的端面为铬镀层；所述铬镀层的厚度为1～20μm。 更多数据：