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一种基于超材料的电磁屏蔽结构

申请号: CN202410211487.1
申请人: 迈默智塔(无锡)科技有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基于超材料的电磁屏蔽结构
专利类型 发明申请
申请号 CN202410211487.1
申请日 2024/2/27
公告号 CN117794220A
公开日 2024/3/29
IPC主分类号 H05K9/00
权利人 迈默智塔(无锡)科技有限公司
发明人 李司光; 崔艳丽; 黄森
地址 江苏省无锡市经济开发区华庄街道高浪东路999号8-D2-315

摘要文本

本发明涉及电磁屏蔽技术领域,本发明提供一种基于超材料的电磁屏蔽结构,包括:依次层叠的第一超材料层、绝缘层和第二超材料层;通过设计上下两层的超材料层的金属线周期、金属线宽度等参数得到相应的电磁屏蔽层,电磁屏蔽层由第二超材料层和第一超材料层的单元结构形成金属网栅周期结构,其中,第二超材料层和第一超材料层的单元结构平行设置,排布的周期一致,设置第一超材料层上的金属线的线宽大于第二超材料层上的金属线的线宽,所述第二超材料层上的所述金属线在所述第一超材料层上的垂直投影落在所述第一超材料层的所述金属线内,实现屏蔽波段覆盖P波段(230~1000MHz)及更低频段,并在不同极化角度和入射角度的条件下均具有较高的屏蔽效能。

专利主权项内容

1.一种基于超材料的电磁屏蔽结构,其特征在于,包括:依次层叠的第一超材料层、绝缘层和第二超材料层;所述第一超材料层和所述第二超材料层上分别包括多个周期性排列的单元结构;所述单元结构呈N×N个周期性排列,N为大于1的正整数;所述单元结构包括第一方向的金属线和第二方向的金属线,所述第一方向与所述第二方向相交;在所述第一方向上,同层且相邻的所述单元结构中所述第一方向上的所述金属线在同一直线上,并相互连接;在所述第二方向上,同层且相邻的所述单元结构中所述第二方向上的所述金属线在同一直线上,并相互连接;其中,所述第一超材料层上的所述金属线的线宽大于所述第二超材料层上的所述金属线的线宽;所述第二超材料层上的所述金属线在所述第一超材料层上的垂直投影落在所述第一超材料层上的所述金属线内。