一种热熔铝电极层静电吸盘及制作工艺
申请人信息
- 申请人:无锡卓瓷科技有限公司
- 申请人地址:214000 江苏省无锡市锡山区东港镇高巷路8号
- 发明人: 无锡卓瓷科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种热熔铝电极层静电吸盘及制作工艺 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410248230.3 |
| 申请日 | 2024/3/5 |
| 公告号 | CN117832036A |
| 公开日 | 2024/4/5 |
| IPC主分类号 | H01J9/00 |
| 权利人 | 无锡卓瓷科技有限公司 |
| 发明人 | 唐占银; 王彩俊; 刘成龙 |
| 地址 | 江苏省无锡市锡山区东港镇高巷路8号 |
摘要文本
本发明公开了一种热熔铝电极层静电吸盘及制作工艺，该制作工艺包括如下步骤，在氧化铝陶瓷底座的顶部加工出若干电极图形槽；在每个电极图形槽内均开设有一个电极插销孔；在每个电极插销孔的上端均插接有铜电极插销；在氧化铝陶瓷底座的若干电极图形槽内平铺有若干高纯铝颗粒，且放置于高真空炉中加热，熔化成铝液均匀流淌至若干电极图形槽的内部，铝液在若干电极图形槽冷却，形成热熔铝电极层；利用研磨机对热熔铝电极层的顶部进行研磨；将热熔铝电极层进行阳极氧化形成致密氧化层；在氧化铝陶瓷底座的顶部热熔射氧化铝形成氧化铝电介质层。本发明具有成本低、加工方便、制作热熔铝电极层方法简单、不需要昂贵设备、且厚度方便控制的优点。。马 克 团 队
专利主权项内容
1.一种热熔铝电极层静电吸盘的制作工艺，其特征在于，包括如下步骤，步骤一：在氧化铝陶瓷底座(1)的顶部加工出若干电极图形槽(2)，每个电极图形槽(2)的深度均为1mm；步骤二：在每个电极图形槽(2)内均开设有一个电极插销孔(3)，每个所述电极插销孔(3)的竖截面均呈“工”形；步骤三：精密清洗氧化铝陶瓷底座(1)；步骤四：在每个电极插销孔(3)的上端均插接有铜电极插销(4)，每个所述铜电极插销(4)的竖截面均成“T”形；步骤五：在氧化铝陶瓷底座(1)的若干电极图形槽(2)内平铺有若干高纯铝颗粒(5)，且放置于高真空炉中加热，达到铝的熔点，使高纯铝颗粒会熔化成铝液均匀流淌至若干电极图形槽(2)的内部，铝液在若干电极图形槽(2)冷却，粘合在若干电极图形槽(2)的内部形成电极图形，形成热熔铝电极层(6)；步骤六：利用研磨机对热熔铝电极层(6)的顶部进行研磨，直到使热熔铝电极层(6)的厚度为0.1mm-0.2mm；步骤七：将热熔铝电极层(6)进行阳极氧化形成致密氧化层；步骤八：在氧化铝陶瓷底座(1)的顶部热熔射氧化铝形成氧化铝电介质层(7)，该氧化铝电介质层(7)的厚度为0.8mm-1mm；步骤九：对氧化铝陶瓷底座(1)顶部的氧化铝电介质层进行磨削、抛光、凸点(8)制造；步骤十：在每个电极插销孔(3)的下端均插接有通电电极(9)，每个所述铜电极插销(4)的下端均插接于其对应的通电电极(9)的上端。。 （）