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一种基底上原位生长表面等离激元金属催化剂的方法及应用

申请号: CN202410061855.9
申请人: 苏州大学
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种基底上原位生长表面等离激元金属催化剂的方法及应用
专利类型 发明申请
申请号 CN202410061855.9
申请日 2024/1/16
公告号 CN117587456A
公开日 2024/2/23
IPC主分类号 C25B11/091
权利人 苏州大学
发明人 江林; 毕元婷; 梁文凯; 孙迎辉
地址 江苏省苏州市姑苏区十梓街1号

摘要文本

本发明属于先进材料技术,具体涉及一种基底上原位生长表面等离激元金属催化剂的方法及应用。将带有金属前驱体的基底还原处理,得到复合基底;将复合基底、表面活性剂溶液、金属前驱体溶液混合,再加入还原剂,进行生长反应,实现基底上原位生长表面等离激元金属催化剂,也得到表面生长表面等离激元金属催化剂的基底。本发明制备方法简便,能够有效的缩短制备周期,避免高温高压等危险的实验环境,同时制备的电催化剂能够直接负载在碳纸基底上,可以直接作为工作电极应用于光辅助电催化反应中。

专利主权项内容

1.一种基底上原位生长表面等离激元金属催化剂的方法,包括以下步骤:(1)将带有金属前驱体的基底还原处理,得到复合基底;(2)将复合基底、表面活性剂溶液、金属前驱体溶液混合,再加入还原剂,然后进行生长反应,实现基底上原位生长表面等离激元金属催化剂。