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一种硅片自然氧化层去除用辅助装置
申请人信息
- 申请人:昆山科比精工设备有限公司
- 申请人地址:215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇紫竹路1398号
- 发明人: 昆山科比精工设备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种硅片自然氧化层去除用辅助装置 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410056667.7 |
| 申请日 | 2024/1/16 |
| 公告号 | CN117577564A |
| 公开日 | 2024/2/20 |
| IPC主分类号 | H01L21/67 |
| 权利人 | 昆山科比精工设备有限公司 |
| 发明人 | 王万生 |
| 地址 | 江苏省苏州市昆山市玉山镇紫竹路1398号 |
摘要文本
本发明提供一种硅片自然氧化层去除用辅助装置，用于解决现有硅片镀铜的技术尚不成熟，难以实现系统化、批量化的硅片氧化层去除，影响后续硅片的镀铜质量的问题。为本发明提供一种硅片自然氧化层去除用辅助装置，包括：机架，所述机架的左上部安装有氮气吹干清洁段，所述机架的右上部安装有溶液腐蚀清洁段，所述氮气吹干清洁段和溶液腐蚀清洁段相连通。氮气吹干清洁段，可对硅片进行初步清洁，保证了后续氢氧化钾溶液与硅片表面氧化层的反应效果；溶液腐蚀清洁段和摇晃去泡机构，可带动硅片治具整体水平往复晃动，防止气泡粘附在硅片表面阻止进一步的腐蚀反应，使氢氧化钾溶液与硅片表面的接触更充分，保证了硅片氧化层的腐蚀清洁效果。
专利主权项内容
1.一种硅片自然氧化层去除用辅助装置，其特征在于，包括：机架(1)；所述机架(1)的左上部安装有氮气吹干清洁段(101)，所述机架(1)的右上部安装有溶液腐蚀清洁段(102)，所述氮气吹干清洁段(101)和溶液腐蚀清洁段(102)相连通；所述氮气吹干清洁段(101)内设置有氮气风刀(103)，所述溶液腐蚀清洁段(102)内设置有溶液喷管(104)；所述氮气吹干清洁段(101)和溶液腐蚀清洁段(102)的前壁内侧和后壁内侧均固定有导轨(105)，前后位置相对应的每对所述导轨(105)间均滑动安装有硅片治具(2)，硅片治具(2)的上壁置物槽内设置有硅片，所述硅片治具(2)由左至右依次自氮气风刀(103)和溶液喷管(104)的下方通过，溶液腐蚀清洁段(102)内和溶液喷管(104)内均流动设置有氢氧化钾溶液；所述溶液腐蚀清洁段(102)内安装有摇晃去泡机构(3)，所述摇晃去泡机构(3)与硅片治具(2)间歇卡接。