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一种麦克风传感器及其制备方法

申请号: CN202410103350.4
申请人: 镭友芯科技(苏州)有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种麦克风传感器及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410103350.4
申请日 2024/1/25
公告号 CN117641215A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 H04R17/00
权利人 镭友芯科技(苏州)有限公司
发明人 请求不公布姓名
地址 江苏省苏州市昆山市玉山镇祖冲之南路1699号综合楼北楼1107-1110室

摘要文本

本发明公开了一种麦克风传感器及其制备方法,半导体衬底,其内部形成贯穿上下表面的开口;第一介质层,位于所述半导体衬底上表面;复合振膜,其包括依次层叠设置的底部电极、第二介质层、下电极层、压电材料层、上电极层,所述复合振膜的边缘位于第一介质层上,覆盖部分第一介质层,中央区域悬置于半导体衬底的开口上方;背电极,所述背电极位于上电极上方,所述背电极和第一介质层上覆盖有第三介质层;背电极、上电极以及第三介质层构成一个空腔,所述背电极对应空腔位置具有振膜开口,通过本方案振膜是复合膜,既作为电容的极板又有压电效应,这样受到声压后,同时产生压电和电容的复合信号,信号强度大,性能好。。搜索

专利主权项内容

1.一种麦克风传感器,其特征在于,包括:半导体衬底,其内部形成贯穿上下表面的开口;第一介质层,位于所述半导体衬底上表面;复合振膜,其包括依次层叠设置的底部电极、第二介质层、下电极层、压电材料层、上电极层,所述复合振膜的边缘位于第一介质层上,覆盖部分第一介质层,中央区域悬置于半导体衬底的开口上方;背电极,所述背电极位于上电极上方,所述背电极和第一介质层上覆盖有第三介质层;背电极、上电极以及第三介质层构成一个空腔,所述背电极对应空腔位置具有振膜开口。