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一种扫描电子显微镜自适应对焦控制系统及控制方法
申请人信息
- 申请人:苏州矽视科技有限公司
- 申请人地址:215131 江苏省苏州市相城经济技术开发区富阳工业坊7号厂房
- 发明人: 苏州矽视科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种扫描电子显微镜自适应对焦控制系统及控制方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410100772.6 |
| 申请日 | 2024/1/25 |
| 公告号 | CN117650033A |
| 公开日 | 2024/3/5 |
| IPC主分类号 | H01J37/28 |
| 权利人 | 苏州矽视科技有限公司 |
| 发明人 | 许文祥; 马如豹; 刘玉平; 赵焱 |
| 地址 | 江苏省苏州市相城经济技术开发区富阳工业坊7号厂房 |
摘要文本
本发明涉及光学检测技术领域，具体涉及一种扫描电子显微镜自适应对焦控制系统及控制方法，包括由电子源、电磁透镜、电磁探测器、电子光学控制及成像单元构成的第一闭环控制系统；由发射光路、接收光路、工作台微动机构、高差分析及控制单元构成的第二闭环控制系统；第一闭环控制系统和第二闭环控制系统由双闭环对焦控制单元进行联动控制，本发明通过两级对焦闭环控制系统的联动设计，满足高精度稳定对焦要求，提升效率和精确度。
专利主权项内容
1.一种扫描电子显微镜自适应对焦控制系统，其特征在于，包括：由电子源、电磁透镜、电磁探测器、电子光学控制及成像单元构成的第一闭环控制系统；其中，电子源、电磁透镜、电磁探测器沿电子束发射方向依次设置且均分别与电子光学控制及成像单元电性连接；由发射光路、接收光路、工作台微动机构、高差分析及控制单元构成的第二闭环控制系统；其中，发射光路用于发射光束在工作台上的晶圆表面，接收光路用于接收经晶圆表面反射的光束形成光栅图像，高差分析及控制单元用于根据接收光路的光栅图像获得晶圆位移量信息，并将晶圆位移量信息发送至工件台微动机构，工件台微动机构用于根据晶圆位移量信息调整工件台高度，使晶圆表面处于对焦控制范围内；电子光学控制及成像单元和高差分析及控制单元均与双闭环对焦控制单元电性连接。