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发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管

申请号: CN202410101775.1
申请人: 江西兆驰半导体有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管
专利类型 发明申请
申请号 CN202410101775.1
申请日 2024/1/25
公告号 CN117637954A
公开日 2024/3/1
IPC主分类号 H01L33/16
权利人 江西兆驰半导体有限公司
发明人 刘春杨; 胡加辉; 金从龙; 顾伟
地址 江西省南昌市高新技术产业开发区天祥北大道1717号

摘要文本

本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,涉及半导体光电器件领域。其中,发光二极管外延片依次包括衬底,依次层叠于所述衬底上的N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层;所述P型半导体层为周期性结构,周期数为3~25,每个周期均包括依次层叠的第一P型GaN层、第二P型GaN层和二维InSe层;其中,所述第一P型GaN层中GaN为立方闪锌矿结构,所述第二P型GaN层中GaN为六方纤锌矿结构。实施本发明,可提升发光二极管的发光效率,降低其工作电压。

专利主权项内容

1.一种发光二极管外延片,包括衬底,依次层叠于所述衬底上的N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层;其特征在于,所述P型半导体层为周期性结构,周期数为3~25,每个周期均包括依次层叠的第一P型GaN层、第二P型GaN层和二维InSe层;其中,所述第一P型GaN层中GaN为立方闪锌矿结构,所述第二P型GaN层中GaN为六方纤锌矿结构。。