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一种发光二极管外延片及制备方法

申请号: CN202410162359.2
申请人: 江西兆驰半导体有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种发光二极管外延片及制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410162359.2
申请日 2024/2/5
公告号 CN117712249A
公开日 2024/3/15
IPC主分类号 H01L33/06
权利人 江西兆驰半导体有限公司
发明人 程龙; 郑文杰; 高虹; 刘春杨; 胡加辉; 金从龙
地址 江西省南昌市高新技术产业开发区天祥北大道1717号

摘要文本

本发明提供一种发光二极管外延片及制备方法,所述发光二极管外延片包括衬底及依次沉积在所述衬底上的第一半导体层、有源层及第二半导体层,所述有源层包括多个交替层叠的复合量子阱层和量子垒层,所述复合量子阱层包括依次沉积在所述第一半导体层上的极化调控层、第一量子阱子层、第二量子阱子层及晶格匹配层,其中,在沉积完所述第二量子阱子层后,保持沉积所述第二量子阱子层的温度、压力及气氛停顿预设时间后沉积所述晶格匹配层,所述极化调控层为In渐变P型InxGa1?xN层,所述In渐变P型InxGa1?xN层的In的组分逐渐上升,提高发光二极管发光效率。

专利主权项内容

1.一种发光二极管外延片,其特征在于,包括衬底及依次沉积在所述衬底上的第一半导体层、有源层及第二半导体层,所述有源层包括多个交替层叠的复合量子阱层和量子垒层,所述复合量子阱层包括依次沉积在所述第一半导体层上的极化调控层、第一量子阱子层、第二量子阱子层及晶格匹配层,其中,在沉积完所述第二量子阱子层后,保持沉积所述第二量子阱子层的温度、压力及气氛停顿预设时间后沉积所述晶格匹配层,所述极化调控层为In渐变P型InGaN层,所述In渐变P型InGaN层的In的组分逐渐上升。x1-xx1-x