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一种Micro-LED外延片及其制备方法、LED芯片
申请人信息
- 申请人:江西兆驰半导体有限公司
- 申请人地址:330000 江西省南昌市高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 发明人: 江西兆驰半导体有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种Micro-LED外延片及其制备方法、LED芯片 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410240437.6 |
| 申请日 | 2024/3/4 |
| 公告号 | CN117832347A |
| 公开日 | 2024/4/5 |
| IPC主分类号 | H01L33/12 |
| 权利人 | 江西兆驰半导体有限公司 |
| 发明人 | 刘春杨; 胡加辉; 金从龙; 顾伟 |
| 地址 | 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号 |
摘要文本
本发明提供一种Micro?LED外延片及其制备方法、LED芯片,其中Micro?LED外延片包括缓冲层,所述缓冲层为周期性交叠结构,包括第一缓冲子层和第二缓冲子层,所述第一缓冲子层的厚度大于所述第二缓冲子层,其中,所述第一缓冲子层为AlNbN层,所述第二缓冲子层为AlONbN层。本发明中的Micro?LED外延片,通过采用AlNbN作为第一缓冲子层材料使得具有更小的晶格失配度,能更好的起到缓冲过渡的作用,可以降低因晶格失配而产生的位错,从而提高外延层生长的晶体质量;此外,AlONbN具有很低的内应力,采用AlONbN作为第二缓冲子层能够调节外延层的翘曲,解决了现有技术中的缺少一种满足Micro?LED显示需要求的位错密度低、晶体质量高、发光效率高的Micro?LED外延片问题。
专利主权项内容
1.一种Micro-LED外延片,其特征在于,包括缓冲层,所述缓冲层为周期性交叠结构,包括第一缓冲子层和第二缓冲子层,所述第一缓冲子层的厚度大于所述第二缓冲子层,其中,所述第一缓冲子层为AlNbN层,所述第二缓冲子层为AlONbN层。